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行業(yè)產(chǎn)品

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深圳市科時達(dá)電子科技有限公司


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  • NTE-4000 (M) 熱蒸發(fā)系統(tǒng)

    詳細(xì)摘要: NTE-4000(M)熱蒸發(fā)系統(tǒng)概述:NANO-MASTER NTE-4000是一款PC計算機(jī)控制的臺式熱蒸發(fā)系統(tǒng),在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備的...

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2024-02-19 在線留言

  • NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    詳細(xì)摘要: NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述:NANO-MASTER PECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到可達(dá)12...

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2024-02-19 在線留言

  • 美國FALD原子層沉積系統(tǒng) AT-600

    詳細(xì)摘要: 原子層沉積(Atomic layer deposition)是一種可以將物質(zhì)以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法。原子層沉積與普通的化學(xué)沉積有相似之處。但...

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  • 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī) (E-beam Evaporator)

    詳細(xì)摘要: 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)是化合物半導(dǎo)體器件制作中的一種重要工藝技術(shù);它是在高真空狀態(tài)下由電子束加熱坩堝中的金屬,使其熔融后蒸發(fā)到所需基片上形成金屬膜。

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2024-02-19 在線留言

  • 徠卡 EM ACE600 高真空鍍膜機(jī)

    詳細(xì)摘要: Leica EM ACE600是優(yōu)良的多用途高真空薄膜沉積系統(tǒng),設(shè)計來根據(jù)您的FE-SEM和TEM應(yīng)用的需要生產(chǎn)非常薄的,細(xì)粒度的和導(dǎo)電的金屬和碳涂層,用于高分...

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2024-02-19 在線留言

  • Ted Pella 108Auto 108鍍膜儀

    詳細(xì)摘要: 技術(shù)參數(shù):l 自動的換氣與泄氣功能,可以得到一致的膜厚,和的導(dǎo)電噴鍍效果。l 通過高效低壓直流磁控頭進(jìn)行冷態(tài)精細(xì)的噴鍍過程,避免樣品表面受損。

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  • 四探針面掃描電阻率 CDE resmap 178

    詳細(xì)摘要: 美國Creative Design Engineering, 簡稱“CDE",成立于1995年,位于美國加州硅谷的庫比蒂諾 - Cupertino, CDE公司...

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  • 進(jìn)口四探針電阻率測試儀(4PP)/方塊電阻測試儀 280SI

    詳細(xì)摘要: 美國Four Dimensions,Inc, 簡稱“4D",成立于1978年,位于美國加州硅谷的Hayward, 4D公司專注于四探針設(shè)備和CV儀的生產(chǎn)和銷售,...

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  • NSC-3000 (A) 全自動磁控濺射系統(tǒng)

    詳細(xì)摘要: NSC-3000(A)全自動磁控濺射系統(tǒng)概述:帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,到6旋轉(zhuǎn)平臺,可支持到3個偏軸平面磁控管。

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  • MC-LMBE / PAC-LMBE 激光分子束外延系統(tǒng)

    詳細(xì)摘要: 激光分子束外延(Laser MBE)是上個世紀(jì)90年代發(fā)展起來的一種新型高精密制膜技術(shù),它集PLD的制膜特點和傳統(tǒng)MBE的超高真空精確控制原子尺度外延生長的原位...

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  • 脈沖激光沉積系統(tǒng) Pioneer 180 MAPLE PLD

    詳細(xì)摘要: 基質(zhì)輔助脈沖激光蒸發(fā)(MAPLE)是PLD的一種變體。這是由NRL集團(tuán)新引入的技術(shù),以促進(jìn)某些功能有機(jī)材料的薄膜沉積?;赨V (5-6 eV)的傳統(tǒng)PLD技術(shù)...

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  • PEALD 原子層沉積系統(tǒng)

    詳細(xì)摘要: 1.ALD (傳統(tǒng)的熱原子層沉積);2.PEALD (等離子增強(qiáng)原子層沉積);3.Powder ALD (粉末樣品的原子層沉積);儀器簡介:原子層沉積(Atom...

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  • NLD-3500 (A) ,全自動原子層沉積系統(tǒng)

    詳細(xì)摘要: NLD-3500(A)全自動原子層沉積系統(tǒng)概述:原子層沉積是一項沉積薄膜的重要技術(shù),具有廣泛的應(yīng)用。ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉...

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  • 原子層沉積系統(tǒng) R系列

    詳細(xì)摘要: PICOSUN擁有30多年在芬蘭ALD反應(yīng)器制造而得到的專業(yè)技術(shù)。Tuomo Suntola博士,于1974年發(fā)明了ALD技術(shù),是PICOSUN董事會的成員。我...

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2024-02-19 在線留言

  • PECVD+RIE等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積和反應(yīng)

    詳細(xì)摘要: 系統(tǒng)中的PECVD可以沉積高質(zhì)量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、類金剛石薄膜、硬質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。標(biāo)準(zhǔn)配置射頻(RF),可選用空陰密度等離子體(HCD)源、感應(yīng)...

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2024-02-19 在線留言

  • Denton 等離子體增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積 PE-CVD

    詳細(xì)摘要: PE-CVD解決方案與典型CVD反應(yīng)器相比,等離子體增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積(PE-CVD)提供了一種可使用更低溫度沉積各種薄膜的有效替代方案,同時不會降低薄膜質(zhì)量。...

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2024-02-19 在線留言

  • SAL3000原子層沉積系統(tǒng)

    詳細(xì)摘要: SAL-3000 ALD原子層沉積系統(tǒng)SAL3000是一款適用于研究型的ALD原子層沉積設(shè)備,該設(shè)備最多可搭載6路前驅(qū)體,適用于4英寸(φ100mm)以下基底材...

    產(chǎn)品型號:所在地:深圳市更新時間:2024-02-19 在線留言

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