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原子層沉積系統(tǒng) R系列

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更新時間：2024-02-19 17:47:13瀏覽次數(shù)：70次

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深圳市科時達電子科技有限公司

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聯(lián)系人：林經(jīng)理

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產(chǎn)品簡介

PICOSUN擁有30多年在芬蘭ALD反應器制造而得到的專業(yè)技術(shù)。Tuomo Suntola博士，于1974年發(fā)明了ALD技術(shù)，是PICOSUN董事會的成員。我們的技術(shù)官SVEN LINDFORS從1975年開始連續(xù)的設(shè)計ALD系統(tǒng)。綜合起來講，PICOSUN擁有了200多年的ALD經(jīng)驗并貢獻了100多項ALD。我們悠久的歷史和廣泛的背景使PICOSUN成為ALD技術(shù)優(yōu)質(zhì)的合作伙伴。技術(shù)參

詳細介紹

技術(shù)參數(shù)：

技術(shù)指標
SUNALE™ R系列技術(shù)特點

基本特點：
晶片尺寸 2-6”, 50-150 mm (8’’ = 200 mm on request)
工藝溫度 Up to 500°C

反應室體積小型、中型、大型
反應室材料 316 SS, Ti, Ni, Al (quartz)
前驅(qū)體 2-6 氣體 / 氣體 / 固體

基片裝載氣體升降

尺寸：
尺寸 27.6 x 41.3 x 36.4’’, 70 x 105 x 92.5 cm (W x H x D)
重量 200 kg

工況：
電源 100-240 V, 50/60 Hz, 1- or 3-phase, 3.7 kW Vac
真空泵 30-80 m3/h
載氣 99.999 % N2 / Ar, min. 2 slm

壓縮空氣 4-5.5 bar 過壓
冷卻水反應器不需要

排氣為真空泵及源櫥柜配備

樣品裝載選項：
Picoloader™手動樣品裝載系統(tǒng)，帶一個預真空室和閘閥