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橢圓計(jì) (膜厚測(cè)定 多層膜解析 光弾性測(cè)定) M-series

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橢圓率計(jì)(測(cè)量膜厚多層膜解析測(cè)量光彈性) M-series▼概要日日本分光制的橢圓計(jì)配有日本分光產(chǎn)的PEM雙重鎖定方式和光伺服?光參考方式,實(shí)現(xiàn)高速性和高安定性

詳細(xì)介紹


橢圓率計(jì)測(cè)量膜厚 多層膜解析 測(cè)量性) M-series

概要
日日本分光制的橢圓計(jì)配有日本分光產(chǎn)的PEM雙重鎖定方式和光伺服?光參考方式,實(shí)現(xiàn)高速性和高安定性。由于偏光素子的軸配置適合特別薄的膜和微小的偏光測(cè)量,所以主要用于向高集積化和高精細(xì)化發(fā)展的半導(dǎo)體及高機(jī)能光學(xué)薄膜等材料的評(píng)價(jià)。
規(guī)格
M-210/220/230/240/550/ELC-300

型號(hào) M-210 M-220 M-230 M-240 M-550 ELC-300
測(cè)量方法 PEM雙重鎖定方式、光伺服/光參照控制方式
分光器 - 雙單色器
自動(dòng)波長(zhǎng)驅(qū)動(dòng)裝置
雙單色器
(260~900nm)
單單色器
(900~1700nm)
自動(dòng)波長(zhǎng)
驅(qū)動(dòng)裝置
單單色器
自動(dòng)波長(zhǎng)
驅(qū)動(dòng)裝置
雙單色器
自動(dòng)波長(zhǎng)
驅(qū)動(dòng)裝置
測(cè)量波長(zhǎng) He-Ne激光
(632.8nm)
He-Ne激光(632.8nm)
Xe光源
(260~860nm)
He-Ne激光
(632.8nm)
Xe光源
(240~700nm)
He-Ne激光
(632.8nm)
Xe光源
(26~900nm)
鹵素?zé)?br /> (900~1700nm)
Xe光源
(350~800nm)
He-Ne激光
(632.8nm)
Xe光源
(260~860nm)
入射角范圍 40゜~ 90゜
連續(xù)自動(dòng)設(shè)定
(0.01゜間隔)
45゜~ 90゜
連續(xù)自動(dòng)設(shè)定
(0.01゜間隔)
40゜~ 90゜
連續(xù)自動(dòng)設(shè)定
(0.01゜間隔)
膜厚測(cè)量范圍 0~99999?
測(cè)量時(shí)間 1msec以上 20μsec~16sec
測(cè)量準(zhǔn)確度* 屈折率 ±0.01
膜厚 ±1?
消衰係數(shù) ±0.01
*準(zhǔn)確度是指測(cè)量時(shí)間100msec以上。另外、根據(jù)表面狀態(tài)、膜質(zhì)不同準(zhǔn)確度也不同。
樣品室 樣品垂直放 樣品水平放 樣品垂直放
檢測(cè)器 檢光子(Glan-Taylor棱鏡)
紫外可見(jiàn)區(qū)域:光電子倍増管 近紅外區(qū)域:InGaAs-PIN光電二極管(M-240)
軟件
主機(jī)標(biāo)準(zhǔn) 1.時(shí)間變化測(cè)量
2.膜厚測(cè)量
3.Δ-Ψ模擬
4.光譜測(cè)量?解析*1
5.誘電率計(jì)算*1
6.反射率計(jì)算*1
*1 M-210型號(hào)不是分光型不可使用
選項(xiàng)程序 1. 映射測(cè)量(自動(dòng)X-θ帶映射臺(tái))
2.多層膜解析*2
3.多入射角測(cè)量
4.靈敏度模擬*2
5.波長(zhǎng)Cauchy光譜*3
6.橢圓率測(cè)量?解析、測(cè)量波長(zhǎng)固定復(fù)屈折(帶異方性解析臺(tái))*3
7.測(cè)量3次元屈折率(需要異方性解析臺(tái))*3
8.測(cè)量光弾性定數(shù)(帶光弾性測(cè)量用透過(guò)臺(tái))*3
*2 M-210不是分光型的不能使用
*3 M-550不能測(cè)量透過(guò)不能使用。







規(guī)格
M-210/220/230/240/550/ELC-300
型號(hào) M-210 M-220 M-230 M-240 M-550 ELC-300
測(cè)量方法 PEM雙重鎖定方式、光伺服/光參照控制方式
分光器 - 雙單色器
自動(dòng)波長(zhǎng)驅(qū)動(dòng)裝置
雙單色器
(260~900nm)
單單色器
(900~1700nm)
自動(dòng)波長(zhǎng)
驅(qū)動(dòng)裝置
單單色器
自動(dòng)波長(zhǎng)
驅(qū)動(dòng)裝置
雙單色器
自動(dòng)波長(zhǎng)
驅(qū)動(dòng)裝置
測(cè)量波長(zhǎng) He-Ne激光
(632.8nm)
He-Ne激光 (632.8nm)
Xe光源
(260~860nm)
He-Ne激光
(632.8nm)
Xe光源
(240~700nm)
He-Ne激光
(632.8nm)
Xe光源
(26~900nm)
鹵素?zé)?br /> (900~1700nm)
Xe光源
(350~800nm)
He-Ne激光
(632.8nm)
Xe光源
(260~860nm)
入射  角范圍 40゜~ 90゜
連續(xù)自動(dòng)設(shè)定
(0.01゜間隔)
45゜~ 90゜
連續(xù)自動(dòng)設(shè)定
(0.01゜間隔)
40゜~ 90゜
連續(xù)自動(dòng)設(shè)定
(0.01゜間隔)
膜厚測(cè)量范圍 0~99999?
測(cè)量時(shí)間 1msec以上 20μsec~16sec
測(cè)量準(zhǔn)確度* 屈折率 ±0.01
膜厚 ±1?
消衰係數(shù) ±0.01
*準(zhǔn)確度是指測(cè)量時(shí)間100msec以上。另外、根據(jù)表面狀態(tài)、膜質(zhì)不同準(zhǔn)確度也不同。
樣品室 樣品垂直放 樣品水平放 樣品垂直放
檢測(cè)器 檢光子(Glan-Taylor棱鏡)
紫外可見(jiàn)區(qū)域:光電子倍増管 近紅外區(qū)域:InGaAs-PIN光電二極管(M-240)

軟件
主機(jī)標(biāo)準(zhǔn) 1.時(shí)間變化測(cè)量
2.膜厚測(cè)量
3.Δ-Ψ模擬
4.光譜測(cè)量?解析*1
5.誘電率計(jì)算*1
6.反射率計(jì)算*1
*1 M-210型號(hào)不是分光型不可使用
選項(xiàng)程序 1. 映射測(cè)量(自動(dòng)X-θ帶映射臺(tái))
2.多層膜解析*2
3.多入射角測(cè)量
4.靈敏度模擬*2
5.波長(zhǎng)Cauchy光譜*3
6.橢圓率測(cè)量?解析、測(cè)量波長(zhǎng)固定復(fù)屈折(帶異方性解析臺(tái))*3
7.測(cè)量3次元屈折率(需要異方性解析臺(tái))*3
8.測(cè)量光弾性定數(shù)(帶光弾性測(cè)量用透過(guò)臺(tái))*3
*2 M-210不是分光型的不能使用
*3 M-550不能測(cè)量透過(guò)不能使用。


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