功能:
1. 對金屬、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有機污染物 (如石蠟、油污、脫膜劑、蛋白等)進行超清洗。
2. 改變某些材料表面的性能。
3. 使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化,加強這些材料的粘附性、相容性和浸潤性。
4. 清除金屬材料表面的氧化層。
優(yōu)點:
1. 對各種幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面進行超清洗和改性。
2. 綠色環(huán)保、不使用化學溶劑、對樣品和環(huán)境無二次污染。
3. 在常溫條件下進行超清洗,對樣品非破壞性處理。
應用領域:
1. 光學器件、電子元件、半導體元件、激光器件、鍍膜基片、終端安裝等的超清洗。
2. 清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
3. 移除光學元件、半導體元件等表面的光阻物質,去除金屬材料表面的氧化物。
4. 清洗半導體元件、印刷線路板、ATR元件、人工晶體、天然晶體和寶石。
5. 清洗生物芯片、微流控芯片、沉積凝膠的基片。
6. 高分子材料表面的修飾。
7. 封裝領域中的清洗和改性,增強其粘附性,適用于直接封裝及粘和。
8. 改善粘接光學元件、光纖、生物醫(yī)學材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。
9. 涂覆鍍膜領域中對玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性,使其活化,增強表面粘附性、浸潤性、相容性,顯著提高涂覆鍍膜質量。
設備名稱 | 等離子清洗機(13.56Mhz) |
腔體材質 | 不銹鋼 |
供電電源 | AC220V |
工作電流 | 整機工作電流不大于1.2A(不含真空泵) |
射頻電源功率 | 0-300W可調(射頻匹配一體) |
射頻頻率 | 13.56Mhz(偏移量小于0.2KHz) |
頻率偏移量 | 小于0.2KHz |
特性阻抗 | 50歐姆,自動匹配 |
真空度 | 1pa-30Pa |
氣體路數(shù) | 雙路氣體輸入 |
氣體流量 | 10—300ml/min(可調) |
過程控制 | PLC人機界面自動與手動方式 |
清洗時間 | 1-99999秒鐘可調 |
功率大小 | 10%-99%可調 |
內腔尺寸 | 2L、5L、10L |
外形尺寸 | 560×540×550mm |
真空泵 | 2XZ-2(抽速2L/S) |
真空室溫度 | ≤室溫+30°C |
冷卻方式 | 強制風冷 |