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原位對穿式激光吸收光譜氣體分析儀

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公司名稱恩威雅環(huán)境技術(shù)（北京）有限公司
品牌
型號(hào)LAS 300XD
所在地北京市
廠商性質(zhì)其他
更新時(shí)間2024/10/28 13:54:56
訪問次數(shù)98

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公司介紹主營產(chǎn)品

恩威雅環(huán)境技術(shù)（北京）有限公司 (原ENVIRONNEMENT環(huán)境技術(shù)（北京）有限公司），于2009年成立，是法國envea集團(tuán)在中國的全資子公司。envea集團(tuán)是在線監(jiān)測儀器及系統(tǒng)領(lǐng)域中處于地位的企業(yè)，始終致力于研發(fā)，制造和提供*的連續(xù)在線監(jiān)測儀器，產(chǎn)品線涵蓋以下領(lǐng)域：?環(huán)境空氣質(zhì)量監(jiān)測(AQMS)?污染源排放連續(xù)監(jiān)測(CEMS)?過程分析監(jiān)測系統(tǒng)(PMS)?全系列顆粒監(jiān)測?發(fā)動(dòng)機(jī)尾氣排放監(jiān)測(EGAS)?Cairpol微型空氣監(jiān)測系統(tǒng) ?核輻射監(jiān)測 ?軟件目前，集團(tuán)公司還在超過65個(gè)國家設(shè)立有辦事處。恩威雅環(huán)境技術(shù)（北京）有限公司專注于提供專業(yè)氣體監(jiān)測領(lǐng)域的的集成、銷售和維護(hù)氣體監(jiān)測系統(tǒng)的服務(wù)等。技術(shù)服務(wù)中心是提供優(yōu)秀售前、售后服務(wù)的有力保障，我們出色的技術(shù)團(tuán)隊(duì)可以在全國范圍內(nèi)，包括澳門和香港地區(qū)，提供全套的集成、安裝及維修等服務(wù)工作，為服務(wù)客戶提供便利。

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產(chǎn)品簡介在線詢價(jià)

原位對穿式激光吸收光譜氣體分析儀

原位對穿式激光吸收光譜氣體分析儀產(chǎn)品信息

四種滿足不同的測量要求：

LAS 300 XD HF 測量HF和水分
LAS 300 XD HCL 測量HCL和水分
LAS 300 XD NH3 測量NH3和水分
LAS 300 XD O2 測量氧氣
LAS300 XD CO/O2 同時(shí)測量一氧化碳和氧氣

產(chǎn)品優(yōu)勢：

高靈敏度 (可測量ppb, ppm 濃度)

測量不受其他氣體組分干擾

較大的動(dòng)態(tài)測量范圍

測量：無漂移，不需校準(zhǔn)，線性響應(yīng)

實(shí)時(shí)測量(響應(yīng)時(shí)間1秒)

原位式煙道外安裝 (光學(xué)技術(shù)）

適用于惡劣現(xiàn)場環(huán)境，傳感器不易被污染（腐蝕）

消除了抽取式方法在采樣過程中的誤差
較低的維護(hù)量和維護(hù)成本

主要應(yīng)用:

過程分析，燃燒控制，排放監(jiān)測，化工廠，化肥廠

石化工業(yè)，電廠，垃圾焚燒廠，水泥廠，玻璃廠

紙漿和造紙廠，煙氣滌除裝置，生物質(zhì)鍋爐

系統(tǒng)描述：

可調(diào)二極管激光光譜是一種優(yōu)秀的測量技術(shù)，可以對一些氣體組分包括NH3,HCL,HF,CO進(jìn)行選擇性的快速測量，并能在惡劣的環(huán)境條件下對氧氣進(jìn)行測量。采用

固態(tài)激光發(fā)射技術(shù)，并將激光光源波長調(diào)制到特定范圍內(nèi)，也被稱為氣體組分的指紋圖譜。

TDLS是一種非接觸的測量方法，因此發(fā)射端光源不存在被污染和腐蝕的風(fēng)險(xiǎn)，維護(hù)和運(yùn)營成本相比其他方法要低很多。得益于快速的A/D轉(zhuǎn)換，直接吸收光譜法（DAS）相比波長調(diào)制光譜法（WMS）更適用于TDIS分析儀。

通過 DAS 技術(shù), LAS 300 分析儀系列可以實(shí)現(xiàn)以下功能:

測量非常低的濃度范圍（幾個(gè)PPB）
測量非常高的氣體濃度－較大的動(dòng)態(tài)量程范圍
非常高精度測量（吸收光譜直接與分子結(jié)構(gòu)相關(guān)，采用可靠的信號(hào)處理算法，對單一氣體和多組分氣體進(jìn)行測量）
測量具有非常高的線性相關(guān)性（光譜吸收根據(jù)朗伯比爾定律進(jìn)行計(jì)算）

LAS 300 XD分析儀采用TDL和DAS技術(shù)可以對脫硝過程中氨泄露進(jìn)行測量，應(yīng)用于SCR，SNCR或者尿素肥料廠的氨氣測量。該設(shè)備同時(shí)可應(yīng)用在原煙氣的HCL測量和焚燒過程中低濃度HCL測量. 以及過程控制中CO和氧氣的測量。