SAL-3000 ALD原子層沉積系統(tǒng)
SAL3000是一款適用于研究型的ALD原子層沉積設(shè)備，該設(shè)備最多可搭載6路前驅(qū)體，適用于4英寸（φ100mm）以下基底材料的鍍膜。該設(shè)備在保持了優(yōu)異的膜厚分布外，還可進(jìn)一步通過(guò)改變鍍膜方向，來(lái)進(jìn)一步提高鍍膜的質(zhì)量。并且該設(shè)備還可搭載互鎖腔體（Load lock Chamber）和手套箱來(lái)沉積需要?dú)夥毡Ｗo(hù)的樣品。
SAL-3000 SAL3000+Load Lock Chamber
性能及特點(diǎn)：
| 1.鍍膜質(zhì)量高 | |
| ·膜厚均勻性≤3% @ 100mm | |
| ·對(duì)于內(nèi)孔、凹槽與高深寬比結(jié)構(gòu)具有良好的沉積均勻性； | |
| ·膜厚可準(zhǔn)確控制達(dá)一個(gè)原子層； | |
| ·大面積制程可達(dá)到無(wú)孔洞薄膜（Pin Hole free） | |
| ·的重復(fù)性及穩(wěn)定性 | |
| ·材料缺陷密度低 | |
| ·可成長(zhǎng)非晶型或結(jié)晶薄膜（選擇溫度） | |
| 2.兩種成膜方向可選 | |
| ·可選擇將薄膜沉積在基底上表面（SAL-3000D）和基底下表面（SAL-3000U），薄膜沉積在基底下表面可降低顆粒附著基底的風(fēng)險(xiǎn)。 | |
| 3. 可搭載互鎖腔體（Load lock chamber）和手套箱 | |
| 4.圖形用戶界面，觸控操作，簡(jiǎn)單易用，可存儲(chǔ)30多種鍍膜方案； | |
| 5.主機(jī)與控制機(jī)箱一體化設(shè)計(jì)； | |
| 6. 可搭配多種配件： | |
| 干式真空泵，臭氧發(fā)生器，尾氣處理裝置，800℃基底加熱器，200℃前驅(qū)體加熱器等，退火設(shè)備等； |
