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儀器簡(jiǎn)介：

XAD是一款上照式全元素光譜分析儀，可測(cè)量nami級(jí)厚度、微小樣品和凹槽異形件的膜厚，也可滿足微區(qū)RoHSjiance及多元素成分分析，的算法及解譜技術(shù)解決了諸多業(yè)界難題。

被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來(lái)料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測(cè)量使用。

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：

微小樣品jiance：zui小測(cè)量面積0.008mm2

變焦裝置算法：可改變測(cè)量距離測(cè)量凹凸異形樣品，變焦距離可達(dá)0-90mm

自主研發(fā)的EFP算法：AI(3)-U(92)元素的成分分析，Li(3)-U(92)元素的涂鍍層jiance，多層多元素，甚zhi有同種元素在不同層也可精準(zhǔn)測(cè)量

的解譜技術(shù)：減少能量相近元素的干擾，jiandi檢出限

高性能探測(cè)器：SDD硅漂移窗口面積20/50mm2探測(cè)器

X射線裝置：微焦加強(qiáng)型射線管搭配聚焦裝置

上照式設(shè)計(jì)：實(shí)現(xiàn)對(duì)超大樣品或者密集點(diǎn)位進(jìn)行快、準(zhǔn)、穩(wěn)gaoxiao率測(cè)量

可編程自動(dòng)位移：選配自動(dòng)平臺(tái)，X210*Y230*Z145mm行程內(nèi)無(wú)人值守自動(dòng)測(cè)量

多準(zhǔn)直器自動(dòng)切換

應(yīng)用領(lǐng)域：

廣泛應(yīng)用于電鍍行業(yè)、通訊行業(yè)、汽車(chē)行業(yè)、五金建材、航空航天、環(huán)保jiance、地質(zhì)地礦、水暖衛(wèi)浴、精密電子、珠寶首飾和古董、鋰電行業(yè)等多種領(lǐng)域。

多元迭代EFP核心算法（號(hào)：2017SR567637）

zhuanye的研發(fā)團(tuán)隊(duì)在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上，計(jì)算樣品中每個(gè)元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增qiangxiao應(yīng)、散射背景等多元優(yōu)化迭代開(kāi)發(fā)出EFP核心算法，結(jié)合的光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)，只需要少量的標(biāo)樣來(lái)校正儀器因子，可測(cè)試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及yuoji物層的厚度及成分含量。

單涂鍍層應(yīng)用：如Ni/Fe、Ag/Cu等

多涂鍍層應(yīng)用：如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等

合金鍍層應(yīng)用：如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等

合金成分應(yīng)用：如NiP/Fe，通過(guò)EFP算法，在計(jì)算鎳磷鍍層厚度的同時(shí)，還可精準(zhǔn)分析出鎳磷含量比例。

重復(fù)鍍層應(yīng)用：不同層有相同元素，也可精準(zhǔn)測(cè)量和分析。

如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB，diyi層Ni和第三層Ni的厚度均可測(cè)量。

有害元素jiance：RoHSjiance，可滿足鉛（Pb）、汞（Hg）、鎘（Cd）、六價(jià)鉻（Cr VI）等有害元素的成分jiance及含量分析

技術(shù)參數(shù)：

1. 成分分析范圍：鋁（Al）- 鈾（U）

2. 成分zui低檢出限：1ppm

3. 涂鍍層分析范圍：鋰（Li）- 鈾（U）

4. 涂鍍層zui低檢出限：0.005μm