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上海尤譜光電科技有限公司
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更新時(shí)間：2023-12-23 17:22:47瀏覽次數(shù)：232次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 紡織服裝機(jī)械網(wǎng)H20-UVL真空紫外光譜儀在高真空環(huán)境下覆蓋100-400nm（3-12.4eV），在大氣環(huán)境下覆蓋190nm-400nm（3-6.5eV）
H20-UVL真空紫外光譜儀在高真空環(huán)境下覆蓋100-400nm（3-12.4eV），在大氣環(huán)境下覆蓋190nm-400nm（3-6.5eV）。配備測(cè)微狹縫和蝸輪驅(qū)動(dòng)實(shí)現(xiàn)快速精確的光譜掃描。
搭配真空紫外光源，H20-UVL可作為一個(gè)優(yōu)異的真空紫外單色光源使用。在分辨率要求不高的情況下，配備單通道探測(cè)器，H20-UVL還是一個(gè)性?xún)r(jià)比較高的真空紫外光譜分析系統(tǒng)。
主要特點(diǎn)
基于HORIBA Jobin Yvon技術(shù)，H20-UVL圍繞一片具有像差矯正能力的4型凹面光柵設(shè)計(jì)。64°偏轉(zhuǎn)角針對(duì)真空紫外波段優(yōu)化。
這種簡(jiǎn)單的光學(xué)設(shè)計(jì)大幅降低了像散，提高像平面的光通量和光譜純度，避免了傳統(tǒng)的Czerny Turner光路在140nm以下因?yàn)槎啻畏瓷涠斐傻墓鈴?qiáng)損失。
應(yīng)用領(lǐng)域
透射反射測(cè)量
紫外可調(diào)濾波/光源
激光諧波濾波
真空紫外質(zhì)量控制
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