H30-UVL是一款設計的真空紫外光譜儀,小角度入射光路中采用超環(huán)面光柵,在整個光譜范圍內保持極低的像差和高光通量,可二維成像。H30-UVL運用靈活,只要更換出射端的狹縫和法蘭,就可以分別實現單色儀和攝譜儀功能。

主要特點
單光學元件設計,光損失最小化
采用超環(huán)面光柵技術,實現25mm平像場
單塊光柵即可實現50-300nm高靈敏度采譜
只需換狹縫和法蘭,即可實現單色儀和攝譜儀兩種功能。
標準配置
光學設計 | Toroidal VLS Grating (single optic)
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焦距 | 274 mm
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孔徑 | f/6
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光柵刻線密度 | 1200 gr/mm
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光柵類型 | Replica (Master in option)
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光學鍍膜 | AlMgF2 optimized at 121 nm or Pt
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偏離角 | 70°
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線色散 | 2.3 nm/mm at 50 nm
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驅動 | Fast worm drive
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分辨率
| Better than 0.2nm (*)
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真空度 | A few 10-6 mbar
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應用領域
激光高次諧波(HHG)
極紫外反射/透射
等離子體發(fā)射光譜
可調諧真空紫外光源