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IXRF磁控離子濺射儀MSP-2S/MSP-Mini

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IXRF磁控離子濺射儀MSP-2S/MSP-Mini利用磁控電極在低電壓下對(duì)樣品濺射金屬靶材，為SEM樣品表面噴鍍金屬鍍層，方便電鏡觀察，而MSP-mini是一款體積小巧，操作簡(jiǎn)便，無需通入特殊氣體，使用時(shí)只需設(shè)置噴鍍時(shí)間即可

詳細(xì)介紹

IXRF磁控離子濺射儀MSP-2S/MSP-Mini利用磁控電極在低電壓下對(duì)樣品濺射金屬靶材，為SEM樣品表面噴鍍金屬鍍層，方便電鏡觀察，而MSP-mini是一款體積小巧，操作簡(jiǎn)便，無需通入特殊氣體，使用時(shí)只需設(shè)置噴鍍時(shí)間即可。

主要特點(diǎn)：
1. 陽極磁控型靶材水平裝入：極低的放電電壓減弱樣品受到的例子損傷和熱損傷；
2. 浮動(dòng)樣品臺(tái)設(shè)計(jì)：使電流不通過樣品，溫度上升很少，同時(shí)減弱離子碰撞引起的損傷；
3. 操作簡(jiǎn)便：通過定時(shí)器控制從真空排氣到啟動(dòng)放電電壓的整個(gè)過程。

應(yīng)用領(lǐng)域：
離子濺射儀在掃描電鏡中應(yīng)用十分廣泛，通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導(dǎo)電樣品的荷電現(xiàn)象，并提高觀測(cè)效率，另外可以使用噴碳附件對(duì)樣品進(jìn)行蒸碳，實(shí)現(xiàn)不導(dǎo)電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。

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