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掃描電子顯微鏡

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產(chǎn)品型號GeminiSEM系列

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地深圳市

紡織服裝機(jī)械網(wǎng)采購部電話:0571-88918531QQ:2568841715

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更新時間:2023-11-17 14:33:29瀏覽次數(shù):84次

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經(jīng)營模式:其他

商鋪產(chǎn)品:140條

所在地區(qū):廣東深圳市

產(chǎn)品簡介

GeminiSEM 系列產(chǎn)品具有出色的探測效率,能夠輕松地實(shí)現(xiàn)亞納米級分辨率的成 像。更高的表面細(xì)節(jié)信息靈敏度讓您具備更高的樣品靈活性, 為您的研究 、工業(yè)實(shí)驗(yàn)室 、成像平臺或教育機(jī)構(gòu)提供靈活、可靠的場發(fā)射掃描電子顯微鏡技術(shù)與方案。運(yùn)用 GeminiSEM 系列產(chǎn)品可獲取各類樣品在微觀世界中清晰、真實(shí)的圖像。

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品簡介

GeminiSEM 500融合了 Gemini 1電子光學(xué)鏡筒的創(chuàng)新設(shè)計 ,從而全面提升了成像分辨率 ,尤其是在低電壓下 。 

GeminiSEM 450配備 Gemini 2 雙聚光鏡電子光學(xué)鏡筒 ,靈活且易于使用 ,在成像與分析方面性能優(yōu)異 、 穩(wěn)定可靠 。

GeminiSEM 300能夠?qū)γ舾斜砻娉上?,具有更高的襯度 、出色的分辨率和超大成像視野 ,即使是初學(xué)者也能很快掌握。

產(chǎn)品優(yōu)勢

更簡單、更智能、更高度集成

  • 低電壓下信號更強(qiáng) ,細(xì)節(jié)更豐富

  • 分析時具有更高的表面靈敏度

  • 更靈活的樣品成像

洞察產(chǎn)品背后的科技

  • 充分發(fā)揮 Gemini 電子光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計的優(yōu)勢

  • 全套探測系統(tǒng) :根據(jù)出射能量和出射角區(qū)分離開樣品的電子

  • 更豐富的細(xì)節(jié)信息 、更具靈活性

  • 更豐富的細(xì)節(jié)信息 、更強(qiáng)的信號

  • 充分發(fā)揮 Gemini 2 光學(xué)系統(tǒng)的性能

產(chǎn)品參數(shù)
已選的探測器和附件探測器和附件的性能優(yōu)勢GeminiSEM 500GeminiSEM 450GeminiSEM 300
Inlens SE 探測器(鏡筒內(nèi)二次電子)超高分辨率表面信息?●??
Inlens BSE 探測器(鏡筒內(nèi)能量選擇背散射探測器) 成分襯度?○??
樣品室二次電子探測器表面形貌信息???
VPSE 探測器在可變壓力模式下進(jìn)行高效成像?*?*  ●*
AsB4 探測器(角度選擇背散射)組份和晶體襯度,三維表面建模??
aBSD 探測器多達(dá) 4 通道同時成像的6象限背散射電子探測器,可用于組份和晶體取向分析及三維表面建模???
aSTEM 探測器(環(huán)形 STEM)7象限透射電子探測器,可用于高分辨率透射成像????
EDS 探測器(能譜儀)元素分析???
EBSD 探測器(背散射電子衍射)檢測晶體取向???
CL 探測器使用陰極熒光進(jìn)行材料表征???
WDS 探測器(波譜儀)高能量分辨率元素分析???
3DSM(三維表面建模)實(shí)時三維表面建模模塊???
80 mm 樣品交換室在 45 秒內(nèi)完成樣品轉(zhuǎn)移???
等離子清洗儀柔和地去除樣品污染???
NanoVP高達(dá)500Pa的可變壓力真空,用以減少非導(dǎo)電樣品的表面荷電現(xiàn)象???
局部電荷中和器局部氣體注入,用以減少非導(dǎo)電樣品的表面荷電現(xiàn)象???
局部電荷中和器與原位氧氣清洗樣品表面的原位清洗,用以減少非導(dǎo)電樣品的表面荷電現(xiàn)象???
樣品臺減速技術(shù)(Tandem decel)高達(dá)5kV的樣品臺減速偏壓,用以在低著陸能量下提供高分辨率和高襯度???
包含在內(nèi) ?○ 可選配     *包含在 NanoVP 選件中
技術(shù)參數(shù)


基本規(guī)格蔡司 GeminiSEM 500蔡司 GeminiSEM 450蔡司 GeminiSEM 300
分辨率*0. 4 nm @ 30 kV( STEM)0. 6 nm @ 30 kV( STEM)0. 6 nm @ 30 kV(STEM)
0. 5 nm @ 15 kV0. 7 nm @ 15 kV0. 7 nm @ 15 kV
0. 9 nm @ 1 kV1. 1 nm @ 1 kV / 500 V1. 2 nm @ 1 kV
0. 8 nm @ 1 kV TD1. 0 nm @ 1 kV / 500 V TD1. 1 nm @ 1kV TD
1. 0 nm @ 500 V1. 5 nm @ 200 V-
分析分辨率2.0nm@15kV,5nA,工作距離8.5mm-
背散射電子分辨率( Inlens BSE)1. 0 nm @ 1 kV1. 2 nm @ 1 kV1. 2 nm @ 1 kV
可變壓力模式(30Pa)下的分辨率1. 4 nm @ 3 kV1. 4 nm @ 3 kV1. 4 nm @ 3 kV

1. 0 nm @ 15 kV1. 0 nm @ 15 kV
加速電壓0. 02– 30 kV0. 02– 30 kV0. 02– 30 kV
探針電流3 pA– 20 nA(100 nA 配置可選)3 pA– 40 nA(100 nA 或 300 nA 配置可選)3 pA– 20 nA(100 nA 配置可選)
放大倍率50– 2, 000, 00012– 2, 000, 00012– 2, 000, 000
電子槍熱場發(fā)射型,穩(wěn)定性優(yōu)于0.2 %/h
基本配置中提供的探測器Inlens 二次電子探測器
Everhart Thornley 二次電子探測器
高效 VPSE 探測器(包含在可變壓力選件中)
選配探測器角度選擇背散射探測器( AsB4)

環(huán)形 STEM 探測器( aSTEM4)
存儲分辨率達(dá) 32k × 24k 像素
樣品臺5 軸電動優(yōu)中心樣品臺
X = 130 mm;Y = 130 mm
Z = 50 mm
T = – 4o – 70o
R = 360o(連續(xù))
按需還可提供更多的樣品臺選件

 最終安裝完成后,在1kV和15kV高真空條件下進(jìn)行系統(tǒng)驗(yàn)收測試時獲得的分辨率。


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