產(chǎn)品簡介】
薄膜厚度測量儀利用分光干涉原理精確測量光學(xué)或非光學(xué)薄膜厚度,測量分辨率達到納米量級。該儀器具有測量迅速、操作簡單、測量結(jié)果穩(wěn)定(高再現(xiàn)性)、用戶使用界面易于操作等特點,是目前市場上性價比優(yōu)良的膜厚測量儀之一,可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、醫(yī)療和工業(yè)生產(chǎn)等領(lǐng)域的薄膜厚度測量。該膜厚儀使用紫外到近紅外區(qū)域光源,測量范圍1nm到500μm,可以測量的膜厚材料包括氧化物、氮化物和保護膜層等常用薄膜材料。
【測量原理】
白色照明光源垂直照射到待測薄膜,一部分光經(jīng)過薄膜上表面的反射,返回到分光儀。另一部分透過薄膜上表面,經(jīng)過薄膜與底層之間的界面反射,返回到分光儀(圖1)。這兩束光在分光儀的光電轉(zhuǎn)換器表面重合,形成分光干涉條紋。根據(jù)分光干涉條紋的周期和薄膜厚度的關(guān)系,利用傅立葉變換方法,解析薄膜的厚度(圖2和圖3)。在薄膜厚度解析過程,利用不同類型材料的相應(yīng)參數(shù)修訂解析模型,從而進一步提高不同類型材料膜厚測量的準確性。


產(chǎn)品特點】
l UV/VIS/NIR高分辨率的配置
l 測量準確度達到1nm重復(fù)性為0.1nm
l 可以測量多層薄膜的厚度
l 測量范圍*小至1nm*大至500µm
l 提供多種實驗臺及附件用于復(fù)雜外形材料的測量
l 對表面缺陷和粗糙度不敏感
l 龐大的材料數(shù)據(jù)庫保證各種材料的精確測量
l 自動調(diào)節(jié)照明光源強度
l 高速、高精度測量,*高測量頻率達到300Hz
l 重量輕、體積小,攜帶方便、安裝簡單,易于安裝在生產(chǎn)線上
l 分光干涉測量模式,無任何移動部件,可長時間穩(wěn)定工作
l 非接觸光學(xué)無損測量,測量過程不會對樣品造成破壞
l 提供*佳解析模型,消除不同材料對測量結(jié)果的影響
【使用特點】
快速:每次測量只需點擊鼠標,測量結(jié)果立即呈現(xiàn)在屏幕上,不到一秒鐘。應(yīng)用于在線模式下,可在接受到采樣信號后,立即測量
準確:準確度1nm重復(fù)性0.1nm,準確度優(yōu)于1%,有多種材料組成的龐大的材料庫,準確分析被測的薄膜。儀器為光學(xué)測量系統(tǒng),無任何移動部件,不會由于多次測量產(chǎn)生回程等機械運動誤差,可長時間穩(wěn)定工作
無損:非接觸光學(xué)無損測量,無須破壞樣品或?qū)悠纷鎏厥馓幚?/span>
靈活:重量約為3kg,體積250*280*100mm,USB2.0/RS232/LAN多種接口連接方式,攜帶方便、安裝簡單,可任意放置于實驗室、生產(chǎn)線甚至辦公桌上使用。擁有多種特種配件,可適應(yīng)如非平面測量、顯微測量等特殊需求
方便:儀器集成自動調(diào)光模塊,根據(jù)系統(tǒng)捕捉到的光譜數(shù)據(jù)自動調(diào)整光源的輸出功率,避免光超過光譜儀的高敏感度線陣探測器能探測的極限,不會出現(xiàn)圖像的飽和
易用:軟件界面直觀、中文顯示、操作簡單、用戶體驗出色。無需專業(yè)知識以及復(fù)雜的技術(shù)培訓(xùn),預(yù)先設(shè)置好測試參數(shù)后,每次重復(fù)調(diào)用即可
性價比高:相對于傳統(tǒng)膜厚測量設(shè)備,儀器擁有非常高的性價比